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溅射靶材的主要制备方法

2021-12-03 13:39:19

溅射靶材按其材质可分为纯金属靶、合金靶、陶瓷化合物靶（包括氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）、复合靶」按形状可分为平面靶和管状旋转靶，平面靶又可分为矩形板和圆形靶，目前，虽然溅射靶材种类繁多，但其基本的制备工艺主要包括粉末冶金法和熔炼铸造法两大类，但随着技术装备的不断进步，大功率的热喷涂技术也逐步在靶材生产中得到了应用。...

钼溅射靶材的特性要求

2021-12-02 13:40:28

高纯度是对钼溅射靶材的一个基本特性要求。钼靶材的纯度越高,溅射薄膜的性能越好。一般钼溅射靶材的纯度至少需要达到99.95%(质量分数,下同),但随着LCD行业玻璃基板尺寸的不断提高,要求配线的长度延长、线宽变细,为了保证薄膜的均匀性以及布线的质量,对钼溅射靶材纯度的要求也相应提高。因此,根据溅射的玻璃基板的尺寸以及使用环境,钼溅射靶材的纯度要求在99.99%～99.999%甚至更高。...

高纯高密度溅射靶材种类

2021-11-30 14:41:11

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。...

溅射靶材的主要应用

2021-11-30 14:12:13

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。...

金属粉末性能

2021-11-29 16:29:26

金属粉末属于松散状物质，其性能综合反映了金属本身的性质和单个颗粒的性状及颗粒群的特性。一般将金属粉末的性能分为化学性能、物理性能和工艺性能。...

溅射靶材的养护，这几点不可忽视

2021-11-29 14:08:57

溅射靶材的养护不可忽视，因为靶材的清洁度对于溅射镀膜过程中形成的镀膜质量，以及产品质量合格与否有着至关重要的作用，清除那些在靶材上的残留物，可减少靶材表面结瘤，也能提高靶材利用率和生产效率，而且靶材清洁也与后期的养护密不可分....

靶材生产制备的常见方法

2021-11-26 15:02:04

靶材主要由靶坯、背板等部分组成：其中，靶坯是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源，即高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上，制成电子薄膜；由于高纯度金属强度较低，而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程，机台内部为高电压、高真空环境。...

金属粉末成形的主要原材料

2021-11-24 16:20:50

粉末的种类、特点和选用对MIM制品的性能及其应用范围的拓展起着十分重要的作用。MIM要求粉末粒度为微米级以下，形状近球形。此外对粉末的松装密度、摇实密度、粉末长径比、自然坡度角、粒度分布也有一定的要求。MIM使用的原料粉末粒径在2~15|xm,而传统粉末冶金的原粉粉末粒径大多在50~100(jLmoMIM工艺的成品密度高，原因是使用微细粉末。MIM工艺具有传统粉末冶金工艺的优点，而形状上自由度高是...