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稀土类型简介

2021-12-15 13:41:28

稀土是镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)，钪(Sc)和钇(Y)共17种元素的统称。英文名称为RareEarth。...

镍粉、镍渣的区分及其用途

2021-12-15 10:30:31

镍粉：又分为羰基镍粉，主要用于涂料和塑料作导电颜料屏蔽电磁干涉及射频干涉，作各种高光泽装饰漆和塑料，代替铝粉在水性体系作防腐蚀漆等，细颗粒球形镍粉可用于导电油墨。...

简析影响磁控溅射工艺稳定性的因素

2021-12-14 10:05:47

磁控溅射镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性、薄膜的成膜质量、溅射速率等方面的问题是实际生产中十分关注的。影响这些工艺稳定性的因素主要有溅射功率、气体压力与氩气纯度、靶与基片的距离、磁场的强度与分布、基片的温度与清洁度等因素。...

靶材背板绑定相关知识介绍

2021-12-09 15:23:16

靶材绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来。主要有三种的方式：压接、钎焊和导电胶。靶材绑定常用钎焊，钎料常用In、Sn、In–Sn，一般使用软钎料的情况下，要求溅射功率小于20W/㎝2。...

磁控靶溅射沉积率的影响因素

2021-12-08 15:10:41

溅射沉积率是表征成膜速度的参数，其沉积率高低除了与工作气体的种类与压力、靶材种类与“溅射刻蚀区“的面积大小、靶面温度与靶面磁场强度、靶源与基片的间距等影响因素外，还受靶面的功率密度，亦即靶电源输出的“溅射电压与电流”两个重要因素的直接影响。...

简述溅射镀膜

2021-12-08 13:26:12

溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常,利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成,基片作为阳极,真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体,在阴极(靶)1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的氩离子轰击靶表面,使得靶原子溅出并沉积在基片上，形成薄膜。...

磁控溅射钛靶材制备技术

2021-12-08 11:39:53

磁控溅射钛靶材的原材料制备技术方法按生产工艺可分为电子束熔炼坯（简称ＥＢ坯）和真空自耗电弧炉熔炼坯（简称（ＶＡＲ）坯）两大类，在靶材制备过程中，除严格控制材料纯度、致密度、晶粒度以及结晶取向之外，对热处理工艺条件、后续成型加工过程亦需加以严格控制，以保证靶材的质量。...

锡的物化性质

2021-12-07 16:27:00

金属锡柔软，易弯曲，具有银白色金属光泽，熔点231.89℃，沸点2260℃，无毒。锡属于元素周期表中第四主族元素，原子序数50，原子量118.71，元素符号Sn，锡在常温下富有展性。特别是在100℃时，展性非常好，可以展成极薄的锡箔，可以薄到0.04毫米以下。但延性却很差，一拉就断，不能拉成细丝。...