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新闻资讯
磁控溅射是一种物理气相沉积方法,它可以通过使用施加到二极管溅射靶上的特殊形成的磁场来沉积各种材料,包括金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材等.沉积速率或成膜速率是衡量磁控溅射机效率的重要参数.影响沉积速率的因素有很多,包括工作气体的种类、工作气体的压力、溅射靶的温度、磁场强度等.影响磁控溅射靶材镀膜沉积速率的有3个重要因素:溅射电压、电流和功率....
通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级.晶粒越细小则晶界面积越大,对性能的影响也越大.对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀.据研究发现,若将钛靶的晶粒尺寸控制在100um以下,且晶粒大小的变化保持在20%以内,其溅射所得的薄膜的质量可得到大幅度的改善....
钨铌靶材具有高强度、高硬度、耐磨、耐腐蚀和良好耐热性能等特点，因而广泛应用于高压、高转速、高温、腐蚀性介质等工作环境。然而，在溅射过程中，靶材的边缘处会留有溅射产生的颗粒物，而这些颗粒物一旦剥落，不仅会影响溅射环境，还降低产品质量。...
靶材是制备薄膜的主要材料之一，主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等，对材料纯度和稳定性要求高。...
为确保沉积薄膜的质量，靶材的质量必须严格控制，经大量实践，影响钛靶材质量的主要因素包括纯度、平均晶粒尺寸、结晶取向与结构均匀性、几何形状与尺寸等。...
并非完全不导电，利用了分子在薄膜状态下的不连续性金属或金属化合物都具有导电性，只是导电率不同。但是，当金属或金属化合物呈一种薄膜的状态时，其相应的物理特性会有所不...
靶材安装过程中最重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接.如果冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲,背靶到靶...
加热方式分为: (1)电阻加热;(2)感应加热;(3)电子束加热;(4)雷射加热;(5)电弧加热. 各自具有的特点 : (1)电阻加热:这是一种最简单的加热方法,设备便宜、操作容易是其优点. (2)感应加热:加热...
磁控溅射法具有设备简单、镀膜面积大、基面升温缓慢以及成本相对较低的特点,在科研领域得到了广泛的应用,本文以作者浅薄理解为基础,磁控溅射镀膜技术为例,从以下几个方面带读者...
膜上有灰尘点、白雾、油斑、指纹印、口水点等等统称为膜脏，一般发生在膜内或膜外，是镀膜产品的常见问题。部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的问题，镀膜最终的...
