溅射镀膜工艺

溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基 板上形成各种功能薄膜的溅射源.溅射靶材广泛应 用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、 平面显示、太阳能电池等众多领域,不同领域需要的 靶材各不相同.按照生产方法溅射靶材可分为粉末 靶、熔炼靶和喷涂靶;按照形状可分为平面靶材和管 状靶材,平面靶材又可分为矩形靶和圆弧靶;根据成 分可分为纯金属靶材、合金靶材、氧化物靶材、硅化 物靶材等多个品种.

溅射镀膜原理：用加速的离子轰击固体表面,离子和固体表面 原子交换动量,使固体表面的原子离开固体并沉积 在基底表面,该过程即为溅射镀膜.图1为溅射镀 膜过程示意图.用靶材溅射沉积的薄膜致密度 高,与基体之间附着性好.因此,溅射沉积已成为一 种广泛应用的薄膜制备技术.