溅射靶材按其材质可分为纯金属靶、合金靶、陶瓷 化合物靶（包括氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）、 复合靶」按形状可分为平面靶和管状旋转靶，平面靶又 可分为矩形板和圆形靶，目前，虽然溅射靶材种类繁多， 但其基本的制备工艺主要包括粉末冶金法和熔炼铸造法 两大类，但随着技术装备的不断进步，大功率的热喷涂 技术也逐步在靶材生产中得到了应用。

粉末冶金方法

粉末冶金法包括粉末压制烧结法、粉末热等静压法 等。粉末冶金法是将粉体原料按比例混合均匀，经过压 制成形，然后在高温下烧结，经压力加工、热处理后最 终得到靶材。该类方法适合于难熔金属如鸨、钥靶材及 陶瓷靶材的制备。粉末冶金法制备溅射靶材时，其关键在 于：

（1）选择高纯粉料作为原料；

（2）选择能实现快速致密 化的成形烧结技术，以保证靶材的低孔隙率，并控制晶粒 度；

（3）制备过程严格控制杂质元素的引入。采用粉末冶 金法制备的靶材具有成分均匀及晶粒均匀细小、成品率 高的优点，但制备过程采用粉末混合、压制和烧结工艺， 容易在制备过程中带入杂质元素，烧结过程杂质排除效 果较差，造成靶材纯度相对较低，并且烧结靶材的密度 也较熔炼靶低。

熔炼铸造法

熔炼铸造法的基本工艺是将一定比例的合金原料熔 炼后浇注到模具中形成铸锭，然后通过锻造、挤压或拉 拔等成形工艺进行加热，最后经过热处理、机加工等工 序制备得到溅射靶材常用的熔炼方法有真空感应熔炼， 真空电弧熔炼和真空电子束熔炼等。与粉末冶金法相比， 熔炼铸造法得到的靶材纯度高.密度高，但其工艺较为 复杂，对设备要求高，成本也随之升高，并且靶材晶粒 粗大。若各组分之间熔点和密度相差较大，则难以获得 成分均匀的合金靶材。

等离子喷涂方法

等离子喷涂是将金属或非金属材料粉末送入等离子 射流中，利用等离子火焰加热融化喷涂粉末，并在冲击 力的作用下将其沉积到基体上，从而获得具有各种功能 的靶材。