陶瓷靶材按应用来分，可分为半导体关联陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、磁记录陶瓷靶材、光记录陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材等。

半导体关联陶瓷靶材（HfO₂，SiO₂，Si3N4，Al₂O₃,MoSi，TaSi，WSi，TiSi，PLZT，ITO（In₂O₃/SnO₂）），主要应用于栅极电介质膜.饨化膜，扩散阻挡膜，电容器绝缘膜，透明导电膜
  显示陶瓷靶材 ZnS—Mn,ZnS-Tb,ZnS-Sm,CaS-Eu,SrS-Ce，Y₂O₃，Ta₂O₅，Si3N4，MgO ，主要应用于电致发光薄规发光层，电致发光薄膜绝缘层， 磁盘

磁记录陶瓷靶材 Al₂O₃, Si3N4 ，主要应用于磁头，磁光盘(MO)保护

   光记录陶瓷耙材 Si3N4, SiO₂+ZnS ，主要应用于光盘保护膜
   超导陶瓷靶材 YbaCuO, BiSrCaCuO ，主要应用于超导薄膜
   巨磁电阻陶瓷靶材 ZnO₂， Al₂O₃, 主要应用于薄膜太阳能电池窗
   其它应用靶材 In₂O₃，LiNbO₃， BaTiO₃, PZT. ZnO ，主要应用于太阳能电池，压电薄膜
陶瓷靶材按化学组成，可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。