欢迎您访问高新材料网，高新材料网由厂家直供：镀膜材料，合金靶材，陶瓷靶材，高纯金属材料，贵金属材料，溅射靶材！
全国咨询热线：
13315238919
新闻资讯
硅，元素符号Si，原子序数14，原子量28.086，位于第三周期第IVA族，共价半径117皮米，离子半径42皮米，第一电离能786.1kJ/mol，电负性1.8，密度2.33g/cm3，熔点1410℃，沸点2355℃，硬度7。元素硅有无定形硅和晶体硅两种同素异形体。无定形硅为黑色；晶体硅呈钢灰色，有明显的金属光泽、晶格和金刚石相同，硬而脆，能导电，但导电率不如金属且随温度的升高而增加，属半导体。...
在物理气相沉积过程中，靶材被分解成蒸气状态（通常在高真空环境中），然后沉积在其他材料（称为基板）上以形成薄膜。溅射靶材采用物理气相沉积技术制成的薄膜具有许多优点，例如优异的硬度、耐用性和良好的抗变色和耐腐蚀能力。因此，如今靶材溅射镀膜越来越多地用于多种用途，对靶材的需求也迅速增加。下面来看一下各种靶材在溅射镀膜中的应用。...
溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源.溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域,不同领域需要的靶材各不相同.按照生产方法溅射靶材可分为粉末靶、熔炼靶和喷涂靶;按照形状可分为平面靶材和管状靶材,平面靶材又可分为矩形靶和圆弧靶;根据成分可分为纯金属靶材、合金靶材、氧化物靶材...
真空镀膜的应用广泛,如真空镀铝,在塑料等基体上进行真空镀,再经过不同颜色的染色处理,可以应用于家具、工艺品、灯饰、钟表、玩具、汽车灯具、反光镜及柔软包装材料等产品制造中,装饰效果十分出色.真空镀膜技术的特点1、镀覆材料广泛:可作为真空镀蒸发材料有几十种,包括金属、合金和非金属.真空镀膜加工还可以像多层电镀一样,加工出多层结构的复合膜,满足对涂层各种不同性能的需求.2、真空镀膜技术可以实现不能通过电...
真空镀膜过程简单来说就是电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片.氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜....
铍是一种性能较为特殊的材料，它的某些性能特别是核性能和物理性能是其它任何金属材料所不能替代的。铍的应用范围主要集中在核工业、武器系统、航空航天工业、X射线仪表、电子信息系统、汽车行业、家用电器等领域。随着研究的逐步深入，其应用范围还有扩大趋势。...
铍，原子序数4，属于第二周期第二主族元素，同时也是最轻的碱土金属元素。铍金属为钢灰色，熔点1283℃，沸点2570℃，密度1.848g/cm³。...
铋，是一种金属元素，元素符号为Bi，原子序数为83，位于元素周期表第六周期VA族。单质为银白色至粉红色的金属，质脆易粉碎，铋的化学性质较稳定。铋在自然界中以游离金属和矿物的形式存在。...
锗，英文名称Germanium，是一种化学元素，化学符号Ge，原子序数是32，原子量72.64，属于IVA族元素。熔点937.4℃，沸点2830℃，密度5.35g/cm³，硬度6～6.5。锗是一种灰白色类金属，有光泽，质硬，属于碳族，有明显的非金属性质。...
硅是一种化学元素，英文名称Silicon，化学符号是Si，旧称矽，原子序数14，相对原子质量28.0855，密度2.4g/cm³，熔点1414℃，沸点2355℃，元素周期表上IVA族的类金属元素。硅有晶体硅和无定形硅两种同素异形体，晶体硅为钢灰色，无定形硅为黑色，晶体硅属于原子晶体，硬而有光泽，有半导体性质。...
